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光学玻璃清洗剂简介

2019-05-06 11:56

 工业清洗可分为化学清洗和物理清洗,光学玻璃清洗剂属于化学清洗技术,是利用清洗剂对表面污垢.进行软化、溶解,或向污垢内部渗透、减小污垢颗粒间的结合力,更重要的是减小污垢与基体间的结合力,使污垢溶解或松散脱落而去除的过程。

  光学玻璃清洗剂在工业用清洗剂领域中比例较少,主要清洗目标有手机盖板玻璃清洗、液晶面板清洗、球面镜头清洗、LCD、ITO玻璃清洗、各种棱镜清洗、相机镜头清洗、镜片清洗、窗口片清洗、珠宝清洗及各类光学产品。

  光学玻璃清洗剂的使用方法:

  1,首先,光学玻璃产品的污垢分为固休污垢,水溶性污,化学结合型污质,物理结合型污垢,光学清洗剂S-11作用是强润湿渗透性,分散乳化污垢,增溶破乳性等一系列物理化学作用将污垢清洗除去。目的:促使部分盖板污渍白点等微粒物进行化学容化,不能容化的微粒物进行软化,使污渍表面活性增加,能更好的清洗除掉。具体参数需跟据产品工艺来设定,可从小到大,从低到高来向上调。

  2,浸泡清洗,可跟据不同产品工艺要求选择浸泡液,浸泡时间一般在5-10分种,如丝印镀膜后的产品浸泡时间在2-5分种,可跟据不同的油墨和膜种测定时间。目的:促使部分盖板污渍白点等微粒物进行化学容化,不能容化的微粒物进行软化,使污渍表面活性增加,能更好的清洗除掉。具体参数需跟据产品工艺来设定,可从小到大,从低到高来向上调。

  3,二段清洗主要作用:渗透作用,表面活性剂,抗静电,亲水性,憎水性,溶水性。强碱清洗通过化物理处理后,把各种污垢溶解分散软化。通过P3粉的渗透作用,泡沫作用,表面活性,抗静电,亲水性,憎水性,溶水性,再次把玻璃盖板污渍白点的微粒物清洗清除,P3粉同时具有S-11的润湿渗透性,分散乳化污垢,增溶破乳性等一系列物理化学作用。

  光学 璃清洗剂属于高精密,结净度要求最高的清洗剂,普通清洗剂用肉眼观察无污垢即可,而学玻璃清洗剂需要在强光下专业的技术下检测表面的洁净度,必须做到无任何白点,水印,发蒙的现象.所以耐碱无泡表面活性剂是光学玻璃清洗的首选。

  GN980无泡玻璃清洗剂

  产品详情适用范围:

  本品是原玻璃基板、ITO 导电玻璃基板、镀膜玻璃基板、硅片、陶瓷及光学镜片等材料的最佳清洗剂。对油污、粉尘、指印、纤维等污物有很强的去除能力,对金属离子、重金属离子有很强的络合作用。其突出特点是:不含表面活性剂,清洗过程中不产生泡沫,利于机器运行,易漂洗,抗污物再沉淀,废液对环境无污染、无毒害。

  使用方法:

  适用工艺:超声波清洗、毛刷涮洗、浸泡清洗、喷淋清洗等;

  使用浓度:按 3-5%的比例稀释于 DI 水(蒸馏水)中使用(经孔径<1μ的过滤器滤过);

  使用温度:30-50℃;

  使用寿命:每清洗 3 万片 14×14 英寸玻璃基板,更换全部清洗剂(期间视浓度损失情况,每过 8 小时可适当补加清洗剂)。

  典型清洗工艺:

  [清洗剂刷洗 1-2min,30-40℃]→[清洗剂超声清洗 1-2min,30-40℃]→[风刀吹]→

  [纯水刷洗 1-2min,30-40℃] → [纯水超声漂洗 1-2min,30-40℃] →

  [纯水喷淋漂洗,3-5min,室温—40℃]→ [风刀吹干] → [红外炉(或热板炉),紫

  外线] → [送出]

  本品是电子产品、原玻璃基板、导电玻璃基板、镀膜玻璃基板、硅片、陶瓷及光学镜片等材料的最佳清洗剂。

  其突出特点是:对油污、粉尘、指印、纤维等污物有很强的去除能力,可迅速清除各种高级镜片上的指纹、油污、盐分、灰尘、松香、饰面静电等有害物质,挥发速度快,没有残留物,对玻璃、硅胶等镜片没有伤害,是二次清洗必备擦洗产

  品。

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